等離子體清洗機在處理晶圓表面光刻膠時，等離子表面清洗能夠徹底去除表面光刻膠和其余有機物，也可以通過等離子活化和粗化作用，對晶圓表面進(jìn)行處理，能有效提高其表面浸潤性。相比于傳統(tǒng)的濕式化學(xué)方法，等離子體清洗機干式處理的可控性更強，一致性更好，而且能活化、粗化晶片表面，提高晶片表面的浸潤性。

等離子清洗機Plasma Cleaner又被稱為等離子蝕刻機、等離子去膠機、等離子活化機、Plasma清洗機、等離子表面處理機、等離子清洗系統(tǒng)等。等離子處理機廣泛應(yīng)用于等離子清洗、等離子刻蝕、等離子晶圓去膠、等離子涂覆、等離子灰化、等離子活化和等離子表面處理等場合，通過等離子清洗機的表面處理，能夠改善材料表面的潤濕能力，使多種材料能夠進(jìn)行涂覆、涂鍍等操作，增強粘合力、鍵合力，同時去除有機污染物、油污或油脂.

等離子清洗機用于半導(dǎo)體IC; SMT；LCD等制造過程中表面清潔和表面改善功能。去除外表面殘留的光刻膠，有機污染物，溢出的環(huán)氧樹脂等；還可以對表面的性能進(jìn)行活化，增加表面的焊接及封裝能力…。等離子清洗機可以用于生產(chǎn)制造過程中，也可以用于FA或QA實驗室中。